三国混战英特尔三星台积电全力出击争夺霸主宝座

今日芯资讯 1、规模增加20%!英特尔斥资30亿美元扩建奥勒冈州D1X工厂 2、英特尔爱尔兰Fab34首台EUV光刻机交付,成欧洲最先进芯片制造厂 3、台积电3nm量产获重大突破,今年8月投片 4、三星电机为汽车动力系统研发高温MLCC 5、以中为师,俄罗斯寻求半导体产业突围 6、力积电新12英寸晶圆厂建成,预计2023年第三季度投产 英特尔疯狂扩,重夺霸主地位 01 英特尔斥资30亿美元扩建奥勒冈州D1X工厂 4月12日,据台媒《联合报》报道,英特尔公司宣布斥资30亿美元,扩建位于美国奥勒冈州的D1X工厂,以加快重返芯片行业霸主地位所需的技术开发。根据英特尔资深副总裁 Sanjay Natarajan介绍,拥有14000名员工的D1X工厂设施将扩建27万平方英尺,完成后将使其规模增加20%。 报道称,由于英特尔的10nm制程晚了数年,台积电和三星电子等公司能提供比英特尔产品更好的外包生产。同时,台积电和三星电的客户,例如英伟达和AMD已推出更具竞争力的产品并抢下市场,挤压了英特尔的获利能力和成长空间。 英特尔 CEO 基辛格(Pat Gelsinger)想扭转局势,而D1X工厂正引领他的这一计划。从一个生产节点迁移至更先进的节点,通常需要18个月到两年的时间。英特尔的目标是在四年内连续迁移五个节点,来追赶并超越亚洲竞争对手。 02 英特尔爱尔兰Fab34首台EUV光刻机交付 英特尔在爱尔兰莱克斯利普的工厂Fab 34已经交付了其首台 EUV光刻机,该设备由ASML制造,是Intel 4制程技术的关键一环,这也使得Fab 34成为欧洲最先进的芯片制造工厂。该设备由10万个部件、3000根电缆、4万个螺栓和超过1英里长的软管组成。英特尔花了18个月的设计和施工活动,为Fab 34大楼接收这台机器做准备。该建筑围绕光刻机进行设计,后者跨越了工厂的四层,包含一个内置的起重机,延伸到3米高的天花板,还需要大约700个电力、机械、化学和气体供应的连接点。 台积电3nm制程N3B × 三星GAA制程 03 台积电3nm量产获重大突破,今年8月投片 4月12日消息,据台《联合报》报道,台积电和三星在3nm 制程的争夺战,始终吸引全球半导体产业的目光。据调查,一度因开发时程延误的台积电3nm制程近期获得重大突破,延误曾导致苹果新一代处理器仍采用5nm加强版 N4P。报道称,台积电决定今年率先量产第二版3nm制程N3B,将于今年8月于新竹12厂研发中心第八期工厂及南科18厂P5 厂同步投片,正式以鳍式场效晶体管(FinFET)架构,对决三星的环绕闸极(GAA)制程。 三星另辟蹊径,杀入汽车领域 04 三星电机为汽车动力系统研发高温MLCC 据businesskorea报道,三星电机日前宣布,已开发出13种汽车MLCC,保证在150℃环境下使用,该公司计划向全球汽车零部件制造商提供这些产品。据悉,MLCC是电子器件的核心部件,控制电子电路中稳定的电流流动,它对智能手机、家电、汽车等产品至关重要,但在高于保证温度的环境中,MLCC往往会通过降低电容来保证正常运行。 三星电机新研发的MLCC即使在150℃的极端环境中也能在不降低电容的情况下正常运行,该公司零部件解决方案部门负责人Kim Doo young表示:“在极端环境下使用的汽车产品比IT设备产品更难开发,其中动力总成应用最难开发。我们将通过使用差异化的材料和制造技术,进一步扩大三星电机在汽车MLCC市场的影响力。” 05 以中为师,俄罗斯谋求半导体产业突围 俄《生意人报》日前透露,面对西方的制裁,目前政府已组织22个工作组为微电子产业制定一个新的发展规划,总投资规模高达6000到1万亿卢布。业内人士对该报表示,此前俄半导体产业政策对设备材料和制造能力投资不足,导致目前无法形成畅通的国内供应链。 Ruselectronics前董事提出,破解设备材料等领域卡脖子问题“就需要走中国的路”,由国家牵头,集中国内产学研力量,超越经济逻辑,制定计划并严格执行,逐个填补设备材料空白点,将资金以生产制造为核心进行分配,让设计企业在市场环境中自行发展。Dshkhunyan 还指出,俄罗斯还可利用国内能源、金属的低成本优势,吸引中国企业合资合作。 06 力积电新12英寸晶圆厂建成 4月12日,据DIGITIMES报道,力积电最近举行了上梁仪式,以庆祝其在新竹科技园区(HSP)铜锣园区新的12英寸工厂建成。该工厂预计将在2023年第三季度开始批量生产。力积电表示,其计划在2022年底前完成工厂洁净室设施的建设,然后进行设备搬迁。 报道称,力积电在铜锣的新生产基地将包括两座晶圆厂,设计月产能为10万片12英寸晶圆。该工厂于2021年3月破土动工。力积电董事长黄崇仁此前曾表示,在以电源管理IC为主的强劲需求推动下,该代工厂已将70-80%的产能预留给长期合同。 黄崇仁还称,力积电铜锣工厂的月产能将在2024年攀升至3.5万片12英寸晶圆,并在第一座被称为P5的工厂完全投入使用时达到月产能5万片大关。力积电计划在2025年开始建设其铜锣基地的第二个晶圆厂,并命名为P6。黄崇仁表示,当P6投产时,该基地的月产能最终将达到10万片12英寸晶圆。目前,力积电已将2022年的资本支出目标设定为15亿美元,其中97%将用于代工厂的12英寸晶圆厂。 【内容整理于集微网、IT之家、SEMI等仅供交流学习使用,谢谢!】